Seto 1.67 PhotoChromic မှန်ဘီလူး SHMC

1) ချည်နှောင်ခြင်းဆိုသည်မှာအဘယ်နည်း။

Spin Coating သည်ယူနီဖောင်းဖျားသောရုပ်ရှင်ကားများကိုပြားချပ်ချပ်စုပ်စက်ပေါ်သို့အပ်နှံသည့်လုပ်ထုံးလုပ်နည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ များသောအားဖြင့်အများအားဖြင့်သေးငယ်သောအဖုံးပမာဏကိုအလွှာ၏ဗဟိုတွင်အသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည်အမြန်နှုန်းနိမ့်ခြင်းသို့မဟုတ်လုံးဝမချည်ခြင်း ထို့နောက် substrate သည် Centrifugal Force မှဖုံးလွှမ်းထားသောပစ္စည်းများကိုဖြန့်ဝေရန် RPM 10,000 အထိမြန်နှုန်းဖြင့်လှည့်သည်။ Spin Coating အတွက်အသုံးပြုသောစက်ကိုလှည့်ဖျား coater သို့မဟုတ်ရိုးရှင်းစွာ spinner ဟုခေါ်သည်။
ရုပ်ရှင်၏လိုချင်သောအထူမပြည့်မှီတိုင်အောင်အရည်များသည်အလွှာ၏အစွန်းများကိုပိတ်ထားစဉ်လည်ပတ်မှုသည်အလွှာအနားစွန်းမှလှည့်ပတ်နေစဉ်လည်ပတ်မှုကိုဆက်လက်ပြုလုပ်ခဲ့သည်။ အသုံးချနိုင်သည့်အရည်ပျော်ပစ္စည်းသည်မတည်ငြိမ်သောအရာဖြစ်ပြီးတစ်ပြိုင်နက်တည်းအငွေ့ပျံတတ်သည်။ ရုပ်ရှင် spinning ၏ angular အမြန်နှုန်းပိုမိုမြင့်မားလေရုပ်ရှင်။ ရုပ်ရှင်၏အထူသည်လည်းဖြေရှင်းချက်၏အကောင်းဆုံးနှင့်အာရုံစူးစိုက်မှုအပေါ်မူတည်သည်။ spin အပေါ်ယံပိုင်းကိုရှေ့ပြေးလေ့လာခြင်းကိုရှေ့ဆောင်ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာခြင်းကို Emslie et al မှပြုလုပ်ခဲ့သည်။ universal deprons film throughters အထူကြိုတင်ခန့်မှန်းရန်) ။
Spin Coating သည် Sol-Gel မှ Plits of Sol-Gel Precrasters များပေါ်တွင် functional oxtal အလွှာများပေါ်တွင် functional oxtal အလွှာများမှဖန်ခွက်သို့မဟုတ်တစ်ကိုယ်ရေစောင်းအလွှာများပေါ်တွင်အများအားဖြင့်အသုံးပြုသော Sol-Glictal အလွှာများပေါ်တွင်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။ ၎င်းကို photolithography တွင် အသုံးပြု. Photolithography တွင် Photoresist တွင် Photoresist အလွှာများကို 1 မိုက်ခရိုမီတာအထူကိုသဖြင့်အသုံးပြုသည်။ Photoresist သည်ပုံမှန်အားဖြင့်စက္ကန့် 30 မှ 80 အထိတော်လှန်ရေး 20 မှ 80 တော်လှန်ရေးများပြုလုပ်သည်။ ပိုလီမာများဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော Planar Photonic အဆောက်အအုံများဖန်တီးမှုအတွက်လည်းကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုသည်။
အပျော့စ်ကိုပါးချိတ်ပွင့်သောပါးလွှာသောပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များအတွက်အားသာချက်တစ်ခုမှာရုပ်ရှင်အထူ၏တူညီမှုဖြစ်သည်။ Self-leveling မှအထူရှိသောကြောင့် 1% ကျော်သည်မတူပါ။ သို့သော် Polymers နှင့် Photoresists ၏ polymers များနှင့် Photoresists ၏ spin ကိုအာရုံကန့်သတ်ပုံရိပ်တွေကကြီးမားတဲ့အစွန်းပုတီးတွေကိုဖြစ်ပေါ်စေနိုင်တယ်။